ZEISS Auriga
Fonte: Feixe de elétrons (FEG) e íon focalizado (FIB) Módulos: Litografia por feixe de íons (ILB) para preparo de amostras e escrita direta (DWL)
Canhões de emissão de campo no MEV (FEG) permitem uma resolução e ampliação mais altas, que é amplamente utilizado em nanotecnologia e campos biomédicos. E o feixe de íon focalizado (FIB) são capazes não somente de interagir com o material e gerar importantes fontes de informação sobre sua topografia e composição química, mas também de usiná-lo, sendo possível em muitos casos preparar e visualizar superfícies em um único equipamento.